看完本篇你就知道什么是RTP快速退火爐了
更新時(shí)間：2021-07-23 點(diǎn)擊次數(shù)：8657
RTP快速退火爐近年來得到越來越廣泛的應(yīng)用。可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。
該設(shè)備具有很好的長時(shí)間工作穩(wěn)定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能，采用三回路閉環(huán)溫度控制，精確的溫度控制部件可適用于特殊工藝要求，工藝重復(fù)性高，也可用于鐵電膜的制備以及各種半導(dǎo)體材料CVD的熱處理。
RTP快速退火爐主要用于：快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點(diǎn)，觸摸屏操作方式(設(shè)備小巧，節(jié)約空間)。
快速熱處理退火爐簡稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace)，由我公司借鑒了制造工藝，在管式爐的基礎(chǔ)上自主研發(fā)而成。
這款不但擁有很快的升溫速率100℃/S，而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍，降溫速率100℃/S。我們的工程師們巧妙的設(shè)計(jì)工藝使得冷卻氣體直接對著樣品直吹，以至于達(dá)到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫!
此款設(shè)備采用了成儀自主研發(fā)的智能AIO(All In One)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了爐膛自動(dòng)左右移動(dòng)，爐膛在左側(cè)加熱到設(shè)定溫度后，直接移動(dòng)到右側(cè)樣品區(qū)域，實(shí)現(xiàn)樣品快速升溫，樣品加熱到設(shè)定溫度和時(shí)間后，爐膛自動(dòng)移開樣品加熱區(qū)，實(shí)現(xiàn)樣品的快速降溫。
成儀AIO智能控制系統(tǒng)不但實(shí)現(xiàn)了真空系統(tǒng)開啟、保護(hù)氣氛通斷以及冷卻氣體通斷的自動(dòng)協(xié)調(diào)控制，而且還能自動(dòng)平衡爐管內(nèi)的壓力大小，真正實(shí)現(xiàn)了操作方便，而且安全可靠。
功能舉例：樣品加熱到1000℃后，爐膛自動(dòng)移開加熱區(qū)，冷卻氣體自動(dòng)打開直吹樣品表面實(shí)現(xiàn)極速降溫，樣品溫度降到70℃時(shí)自動(dòng)關(guān)閉冷卻氣體。
然后爐膛移動(dòng)到加熱區(qū)繼續(xù)加熱，如此往復(fù)，往復(fù)次數(shù)可用戶自定義。真空系統(tǒng)可根據(jù)用戶設(shè)定溫度自動(dòng)開啟和關(guān)閉。
